Categories: ComponentesWorkspace

Toshiba producirá en 2010 chips flash de 30 nm

Toshiba, fabricará los chips de 30 nanometros en sus instalaciones de Yokkaichi, Japón central, la misma que empezará a fabricar chips de 43 nanometros en marzo de 2008.

Por su parte, Samsung se ha unido con IBM, Infineon Technologies AG, Chartered Semiconductor y Freescale Semiconductor Inc para hacer chips con tecnologías de proceso de 32 nanometros a partir de 2010.

Toshiba está negociando con compatriotas como Fujitsu y NEC para desarrollar los chips conjuntamente, lo que les permitiría reducir costes y responder a la gran demanda de los fabricantes de móviles, portátiles y supercomputadoras.

Más información aquí.

ddelgado TI

Recent Posts

La desinformación y las fakes news se expanden en la red

Además de fakes news, en internet encontramos múltiples formas de desinformación: clonación de medios de…

11 horas ago

Recomendaciones de seguridad para mantener los almacenes libres de ciberdelincuencia

Sin las medidas de protección necesarias, un almacén puede convertirse en el eslabón más débil…

1 día ago

La importancia de optimizar los pagos para generar más ingresos y reducir los costes

Adyen publica los resultados de su estudio "Estrategias para reducir el coste total de pagos",…

1 día ago

Solamente 2 de cada 10 empresas reducen su huella medioambiental con tecnología

Del porcentaje global del 21 % se baja a un 18 % en el caso…

1 día ago

Sophos: “El uso más frecuente de la IA en la ciberdelincuencia es para ‘turboalimentar’ sus estafas sociales”

Entrevistamos a John Shier, CTO Field de Sophos, que hace repaso de las principales amenazas…

1 día ago

¿Cómo convertir a España en hub digital clave para Europa?

Desde fibratel comparten una serie de pautas para orientar la construcción de centros de datos…

1 día ago