El periódico dice que a principios de esta semana, el organismo estatal New Energy and Industrial Technology Development Organisation (NEDO) se sacó de la manga un diseño de 26 nanometros, y tratará ahora de mostrar cómo pueden producirlo de forma masiva utilizando la tecnología Ultravioleta Extrema (EUV).
NEDO ha formado un consorcio de once importantes fabricantes de chips conocido como Selete y utiliza sistemas EUV desarrollados por Canon para conseguir líneas de 26 nanometros en un segmento de 0’5 milímetros de sustrato de silicio.
El artículo dice que la producción masiva de semiconductores que incorporan esta tecnología empezará con toda seguridad en 2011.
vINQulos
Nikkei ( con subscripción)
Noticia original
Además de fakes news, en internet encontramos múltiples formas de desinformación: clonación de medios de…
Sin las medidas de protección necesarias, un almacén puede convertirse en el eslabón más débil…
Adyen publica los resultados de su estudio "Estrategias para reducir el coste total de pagos",…
Del porcentaje global del 21 % se baja a un 18 % en el caso…
Entrevistamos a John Shier, CTO Field de Sophos, que hace repaso de las amenazas surgidas…
Desde fibratel comparten una serie de pautas para orientar la construcción de centros de datos…