Anuncia la llegada de los principales componentes de la primera tecnología EUV High-NA enviada por ASML.
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Actualidad TI EUV
La próxima generación de chips afronta una barrera
La industria hizo su apuesta hace varios años por la tecnología EUV como la próxima generación, pero ahora se cuestiona su eficiencia para PC y smartphones.
Describen los principales fiascos tecnológicos del 2012
Intel ya piensa en los 10 nanómetros
Estos chips de muy bajo consumo entrarán en producción en el año 2015 y podrían basarse en el proceso de litografía ultravioleta extrema.
Intel invierte 4.100 millones de dólares en ASML para elaborar procesadores más veloces
Además de hacerse con el 15% de su accionariado, Intel potenciará el desarrollo de la litografía del ultravioleta extremo y las obleas de 450 milímetros.